硅烷偶联剂KH550对超细石英粉的改性

客服主管发布于2016-07-25 10:39:28

来自:安米微纳团队

2.4 红外光谱(FTIR)

图4为γ-氨丙基三乙氧基硅烷(KH550)与超细石英粉作用前后的红外(FTIR)光谱,图中a、b、c分别为未经处理的超细石英粉、KH550和经KH550作用后的超细石英的FTIR峰值曲线。对比a曲线和c曲线可以看出,经硅烷偶联剂KH550作用后,超细石英在3500cm-1的特征吸收峰消失,由此可以推断超细石英表面的羟基与硅烷偶联剂发生了化学反应,导致红外吸收峰消失或取代;在c曲线1590cm-1处为-NH2的吸收峰,此吸收峰为硅烷偶联剂KH550的特征基团,说明石英与硅烷偶联剂发生了相互作用,KH550良好地

吸附于超细石英表面;在曲线a和c中,900~1100cm-1峰值处的吸收峰产生了较大的突变,此峰值处的峰为石英中的硅氧键[-Si-O-Si-]特征峰,表明硅烷偶联剂KH550与石英产生了新的化学键,导致峰型突变,两者发生了化学吸附。

硅烷偶联剂KH550对超细石英粉的改性_王凡非4.jpg

图3 超细石英经KH550改性前后的粒径分布曲线

硅烷偶联剂KH550对超细石英粉的改性_王凡非5.jpg

图4 超细石英和KH550作用前后的FTIR图谱

2.5 X射线光电子能谱分析(XPS)

硅烷偶联剂KH550与石英作用后N1s的XPS图谱见图5。从图5中可以看出,XPS在399.3eV扫描到N1s的峰,说明经KH550表面改性后,石英表面出现了N元素,这是原石英不可能出现的元素,为石英表面吸附了硅烷偶联剂才能出现的现象,说明改性后的超细石英表面存在KH550,这与FTIR分析结果一致。硅烷偶联剂KH550与超细石英作用前后的Si2p的XPS谱图见图6,其中a和b分别为改性前后的能谱曲线。

上一篇: 下一篇:
高纯石英粉吸油值的测定 我国高纯石英砂粉体材料的研发现状